メーカー経験者 薄膜材料開発株式会社村田製作所

■概要 当社の半導体前工程開発において、成膜プロセス技術の最前線で活躍していただきます。特にCVD(Chemical Vapor Deposition)、ALD(Atomic Layer Deposition)技術を活用した成膜プロセスおよび材料開発を主な業務とし、新規材料やデバイス構造への対応を目指します。 ■詳細 ・新規金属有機化合物や無機化合物の設計・合成 ・CVD/ALDプロセスの設計・最適化、及び新規材料開発 ・材料メーカー及び装置メーカーとの連携による共同研究・評価 ・デバイス性能向上を目的とした成膜特性評価 などの業務を行っていただきます。 ■働き方特徴 年数回の国内・海外出張あり。 フレックス制度導入により個人に合わせた仕事スタイル 【この仕事の面白さ】 薄膜技術を使った新規商品を自ら考案した新規材料と成膜プロセスで作り出し、将来のムラタを支える新規商品にすることで大きなやりがいを実感することができます。 ■業務内容変更の範囲：当社業務全般（ただし、出向時は、出向先が定める業務）

働き方

滋賀県野洲市（野洲事業所） JR琵琶湖線 野洲駅または近江八幡駅より近江鉄道バス20分 ■勤務地変更の範囲：国内外の全拠点およびテレワークの就業場所

正社員

500万円〜800万円

8:30～17:00または9:00～17:30（部門による）※所定内労働時間7時間45分 フレックスタイム部門によりフレックスタイム制あり。

年間休日123日（うるう年は124日）：完全週休2日制（基本は土・日・祝、当社カレンダーにより若干異なります） 平均有給消化率73.2%

社会保険完備、健康保険組合、企業年金基金、退職金制度、財形貯蓄制度、従業員持株会、社員食堂

選考について

【必須】 ・有機化学または無機化学分野での研究・開発またはプリカーサー設計・開発経験 ・CVD/ALD関連業務での開発経験 ・薄膜材料特性評価の基礎知識 【尚可】 ・半導体製造装置を使ったデバイス・プロセス技術知見 ・半導体、電気回路に関する基礎知識 ・海外拠点と技術的なやりとりができる英語力(目安：TOEIC600点以上、流暢でなくて可)