【千葉/流山】半導体製造装置の電気設計※課長クラス◆プライム上場企業グループ◆転勤無◆年休126日ジャパンクリエイト株式会社

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仕事内容

==◆設立60年を超える老舗の半導体製造装置メーカー/製造特許を20件以上取得しており高い技術力を誇る!「エッチング」工程に強み◆== ★オススメポイント★ ◎年休126日、有給取得も柔軟に対応可能のため休みに手厚い環境! ◎転勤もないため、長期的に就業しやすいです! ◎独自の技術力を活かして大手製造メーカーや官公庁との取引あり! ◎台湾/中国/韓国といった東アジア、インドネシア/タイ/シンガポール/マレーシアといった東南アジア、アメリカやヨーロッパ市場にも事業展開しているグローバル企業! ■業務概要: 半導体材料/デバイスやFPD製造におけるドライプロセス装置の電気設計(機構制御、機内配線、制御盤)や制御ソフト(PLC)などの電気制御設計全般をご担当いただきます。 ※装置例:プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、各種成膜関連装置など ■業務詳細: 当社の製品は基本的にオーダーメイドであり、プロセス開発・機械設計・営業とチームを組み、企画・構想から完成まで一貫してものづくりを行います。 【構想設計/基本設計】 お客様からの要求仕様やプロセスの課題に基づき、装置全体の電源電装系統・制御構成設計、主要部品の選定を行う 【詳細設計/図面作成】 電気系CADを使用し、電源電装系統図面、機内配線、部品図、配線図、制御信号IO割付設定作成ならびに、制御PLCソフトウェアの設計製造 【部品発注/協力会社選定】 設計図面に基づき、部品の原価積算、手配業者・協力会社の選定、技術的な打ち合わせを実施 【装置立ち上げサポート】 組み立てスタッフと連携し、装置の動作確認や調整をサポート ■組織構成: 計3名在籍しています。全員男性です。 ・部長(50代) ・一般社員(40代) ・一般社員(30代) ■歓迎条件: ・真空プロセス関連装置の設計経験:半導体、FPD、またはその他産業分野におけるプラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置などの電気設計及びPLCソフトウェア設計製造の経験 ・高精度/クリーンルーム環境の設計経験:高精度な位置決め機構の設計や、クリーンルーム対応装置の設計経験 変更の範囲:会社の定める業務

働き方

勤務地

<勤務地詳細> 流山事業所 住所:千葉県流山市西平井956-1 受動喫煙対策:屋内全面禁煙 変更の範囲:会社の定める事業所

雇用形態

正社員

給与

<予定年収> 680万円〜900万円 <賃金形態> 月給制 <賃金内訳> 月額(基本給):450,000円〜600,000円 <月給> 450,000円〜600,000円 <昇給有無> 有 <残業手当> 有 <給与補足> ■賞与:年2回(昨年実績:4カ月(夏冬)) ■昇給:年1回(4月) 賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。 月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

勤務時間

<標準的な勤務時間帯> 8:30〜17:40 時間外労働有無:有

実働標準労働時間

<その他就業時間補足> 管理監督者のため時間外・休日割増賃金の支給対象外となります ※深夜割増賃金は別途支給

休日

完全週休2日制(休日は土日祝日) 年間有給休暇10日〜(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります) 年間休日日数126日

特徴

待遇・福利厚生

通勤手当、健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、退職金制度 <各手当・制度補足> 通勤手当:通勤費は規程により支給 社会保険:補足事項なし 退職金制度:補足事項なし <教育制度・資格補助補足> - <その他補足> ■管理監督者手当 ■役職手当 ■スペシャリスト手当 ■退職金制度あり ※昇給昇格:人事評価制度に基づく人事考課により、毎年4月以降の新給与が確定

選考について

対象となる方

■必須条件: (1)以下の電気設計の実務経験(目安5年以上) ・半導体、FPD等の産業機械等の製造装置における電源制御回路 ・制御機器を用いた機構制御・機内配線などの電気設計 ・製造装置を具体的に制御するPLCソフトウェア設計製造の実務経験をお持ちの方 (2)CAD設計スキル:電気系CADを用いた実務経験 ■歓迎条件: ・真空プロセス関連装置の設計経験 ・高精度/クリーンルーム環境の設計経験 ・半導体またはFPD分野の製造装置メーカーでの設計経験

会社概要

会社名

ジャパンクリエイト株式会社

所在地

埼玉県所沢市林1丁目203番地4

事業内容

■半導体製造装置の開発、製造 本社/所沢事業部:ウエハー洗浄機、エッチング装置、スピンドライヤーなど 流山事業部:プラズマCVD装置、スパッタリング装置、EB蒸着装置等など →研究用の小型機から量産用の自動装置まで対応。有機ELやLEDなどの洗浄装置も開発可能です。すべて自社内で製造しています。 シリコンウェーハのほかに、ガリウムヒ素(GaAs)・インジウムリン(InP)等の化合物半導体ウェーハから、サファイヤウェーハ、水晶・セラミック基板、またパワー半導体に使われる炭化ケイ素(SiC)・窒化ガリウム(GaN)ウェーハ向けの独自のウェット/ドライプロセスのトータルソリューションを提案いたします。

従業員数

50名

資本金

30百万円

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仕事内容

社員の平均年齢

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