【大阪／東京】TFTデバイス、バックプレーン、プロセス開発※開発費は2兆円超華為技術日本株式会社

仕事内容

【売上高11兆円超を誇る中国のファーウェイが100％出資する日本法人／世界人口の1/3の通信環境をサポート／170以上の国と地域で事業展開／特許取得数10万件以上／売上高の10％以上をR＆Dに投資／個別インセンティブ多数／就業環境も良好◎】 ■業務概要： ・酸化物TFTデバイスの技術エキスパートとして、次世代のディスプレイ技術開発をご担当いただきます。 ・Huawei内部ディスプレイチームと協力するだけでなく、材料メーカー、装置メーカー、及びディスプレイパネルメーカーと相互協力を行い、新テクノロジーを構築します。 ・革新的なデバイス開発だけでなく、デバイス設計から実用化までに現れる課題や、製品における課題の解決も担当していただきます。 ■業務詳細： ・酸化物TFTデバイスの開発（IGZO、LTPS、その他の新規TFTデバイス）のプロセス開発とデバイス設計を担当 ・TFTデバイス材料とその材料選択、及びその製造プロセス、TFTデバイス構造設計と電気的特性、OLED材料及びそのプロセスとの整合性の検討 ・活性化、界面、絶縁体などに起因するTFTの不安定性など、TFTデバイスへの要件を理解し解決 ・TFTデバイスに関連する寄生容量や寄生抵抗に関連する問題を解決 ・チャネルキャリアの制御のための界面条件と薄膜構造の最適化 ・TFTデバイスの信頼性解析と、その課題の発見と解決 ・投資かつ実現が可能なプロセスインテグレーションを提案、及びその製造装置およびその環境の最適化の提案 ■会社の魅力： 【高い成長率を継続する情報通信企業】 ・毎年売上の10％以上を研究開発費に投じる等、先端技術開発への投資が旺盛な企業として知られています。 ・2014年〜2018年における売上高の年平均成長率は26％、営業利益の年平均成長率は21％と進化を続けるグローバルメーカーです。

働き方

勤務地

＜勤務地詳細1＞ 大阪研究所 住所：大阪府大阪市北区中之島3-3-23 中之島ダイビル6階/6 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ＜勤務地詳細2＞ 東京研究所 住所：東京都港区港南2-16-4 品川グランドセントラルタワー 勤務地最寄駅：各線／品川駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙

雇用形態

正社員

給与

＜予定年収＞ 600万円〜1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本給）：6,000,000円〜15,000,000円 ＜月額＞ 500,000円〜1,250,000円（12分割） ＜昇給有無＞ 有 ＜残業手当＞ 有 ＜給与補足＞ ※給与詳細は、経験・スキルを考慮した上で決定 賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。 月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

勤務時間

＜労働時間区分＞ フレックスタイム制 コアタイム：10:00〜15:00 休憩時間：60分（12:00〜13:00） 時間外労働有無：有 ＜標準的な勤務時間帯＞ 9:00〜18:00

実働標準労働時間

＜その他就業時間補足＞ ■月平均残業：20〜30時間程度

休日

完全週休2日制（休日は土日祝日） 年間有給休暇10日〜20日（下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります） 年間休日日数125日 ■夏季休暇、年末年始休暇、有給休暇、育児・介護休暇、慶弔休暇

特徴

待遇・福利厚生

通勤手当、健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、退職金制度 ＜各手当・制度補足＞ 通勤手当：月15万円まで定期代支給 社会保険：補足事項なし 退職金制度：補足事項なし ＜教育制度・資格補助補足＞ ‐ ＜その他補足＞ 産休・育児休暇制度、介護休暇制度、健保組合の福利厚生施設が利用可能。 語学研修、語学研修補助金、文化体験（月餅、ちまき、水餃子作りなど）

応募条件

応募資格

■必須条件： ・材料、化学、物理学、半導体技術の専門知識、学士号以上 ・酸化物TFTデバイス、その他TFTデバイス開発の10年以上の実務経験 ・TFTデバイスの構造とその物理的・電気的振る舞いに精通していること ・薄膜の製造工程、洗浄工程などへの基本的な理解 ・ディスプレイ業界と動向についての十分な知識 ■歓迎条件： ・TFTデバイスの開発経験 ・TFTデバイスシミュレーションの経験 ・量産プロセスの経験 ＜語学力＞ 必要条件：英語中級 ＜語学補足＞ コミュニケーションスキルが可能なレベルの英語力